L’OVD (outside vapor deposition) est une technique de réalisation de préformes de verre développée par Corning® dans les années 1970. Cette méthode est considérée aujourd’hui comme l’une des plus attractives pour réaliser des fibres passives (dopage Ge, P…) et actives (Yb, Er…) avec de faibles pertes et une haute pureté. Elle se déroule en deux temps, le dépôt et la densification.

 

 

Dépôt :

 

Lors d’un dépôt OVD une cible en rotation (alumine, graphite, verre…) est translatée au dessus d’un brûleur dans lequel sont introduits les précurseurs chlorés (SiCl4, GeCl4, POCl3…) des oxydes constituants la matrice que l’on souhaite déposer (SiO2, GeO2, P2O5…). Ces espèces sont injectées dans une flamme hydrogène/oxygène sous forme de vapeurs par bullage sous courant d’oxygène (figure 1). Dans ces conditions, les précurseurs s’oxydent par combustion et par hydrolyse dans la flamme. Les oxydes obtenus s’agrègent très rapidement sous forme de « suies » qui se déposent sur la cible par effet de thermophorèse. La succession de couches de dépôt permet d’obtenir un matériau poreux, volumineux et facilement isolable après retrait de la cible. Le dépôt est alors densifié en une préforme massive et fibrable.

 

 

 

          ovd                      OVD21

 

 

Figure 1 : Principe de réalisation d’un dépôt par OVD et dépôt en cours de réalisation.

 

 

Densification :

 

 

L’étape de densification conduit à la préforme finale. Elle se fait à haute température dans un four dédié. Après un traitement chimique du dépôt à haute température, ce dernier est densifié à 1500°C. A cette température, les particules constituant le dépôt commencent à ramollir et sous l’effet des forces de tensions de surface se transforment lentement en matériau massif et transparent (figure 2).

 

                            OVD22                            OVD23

 

 

Figure 2 : passage d’un dépôt poreux (gauche) à une préforme massive (droite) après densification.

 

 

Pour plus d'informations, contacter: Andy Cassez, PhLAM